熱処理装置


装置名：急速アニール炉

  • 　　製品名：RHL-P610CP
  • 　　メーカー：ULVAC-RIKO

＜装置の概要＞

  • 放物反射面を有し平行赤外光により広い面積を均一に加熱することが可能な、赤外線ランプ加熱炉です


＜装置の仕様＞

温度範囲室温～1200℃
熱処理ゾーンφ40mm×80mm


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