フォトリソグラフィー装置
装置名：MIKASAアライナ
- 製品名：M-1S特型
- メーカー：ミカサ
＜装置の概要＞
- コンタクト方式のアライナ
＜装置の仕様＞
| ウエハサイズ | 4インチまで |
|---|
装置名：両面マスクアライナ
- 製品名：PEM-800
- メーカー：ユニオン光学
＜装置の概要＞
- ウエハの表面と裏面にアライメント光学系を配置
- ウエハ裏面のパターンに合わせて、表面にアライメントできます。
＜装置の仕様＞
| マスクサイズ | 5インチまで |
|---|---|
| ウエハサイズ | 4インチまで |
| 露光モード | コンタクト N2吹上げコンタクト |
| 解像度 | 3μmL/S （N2吹上げ時） |
装置名：電子ビーム描画装置
(本装置のみ7号館1階に設置)
- 製品名：ELS-BODEN50-KIT5001
- メーカー：エリオニクス
＜装置の概要＞
- 電子ビームで微細加工用のパターンを形成する装置です。
＜装置の仕様＞
| 加速電圧 | 50KV |
|---|---|
| ビーム電流 | 100pA～100nA |
| 最小ビーム径 | 2.0nm |
| 標準フィールドサイズ | 1000μm□ |
| 最小／最大 フィールドサイズ |
最小100μm□ ／最大（オプション）3000μm□ |
| スキャンクロック | 最大100MHz |
| ショットピッチ | 最小0.2nm |
| 最大試料サイズ | 8"ウエハー |
| 最大描画エリア | 8"描画エリア |
| 使用レジスト | 電子線レジスト ZEP520A |