=== 装置メンテナンス等のお知らせ ===

装置共用化の目的

従来各研究室で運営管理されていた装置をクリーンルームに集結し、 共用で使用できるようにすることにより、高額な機器装置の有効活用を図り、 より広範囲な領域にわたる実験や研究を可能とすることを目的としています。

＜平成28年度先端研究基盤共用促進事業・新たな共用システム導入支援プログラムにより共用化を進め、平成30年度でプログラムは終了しましたが、クリーンルームの共用化は継続しています。＞

クリーンルームの概要

京都工芸繊維大学８号館地下にあり、ダウンフロー式の面積２５６m²の クリーンルームです。光・電子デバイス、MEMS等の作製や各種評価のための 機器装置が多数設置されています。（現在、予約が必要な装置21台）

クリーンルームとは

半導体デバイスなどの作製において、空気中に浮遊している粒子(パーティクル、塵）は 微細加工の不良原因となるので、少なくする必要があります。 クリーンルームは空気中の粒子濃度を非常に低く抑えた部屋であり、 温度、湿度、圧力なども制御されています。天井からフィルターを 通過したきれいな空気が床のグレーチングと呼ばれる空気の抜け道まで、 上から下への一方向の流れを形成し、粒子を巻き込みません。また、 クリーンルームの中の圧力は外部に比べ高く設定されているので、 外部への気流が発生し、外部からの粒子の侵入を抑えています。