アニーリング過程における薄膜の形態変化シミュレーション
初期に平滑な表面を有する薄膜が，弾性ひずみエネルギーを小さくしようとして島形態に変化する過程をシミュレートしました．
カラーはx方向の応力分布を表わしており，赤いほど圧縮応力が高く，青いほど引張り応力が高いことを示しています．
薄膜内では圧縮応力が生じ，島ができると基板内に引張り応力が生じていることが分かります．
表面エネルギーと弾性ひずみエネルギーのバランスで島形態が決定されます．
＜関連文献＞
量子ドット生成プロセスのPhase-field シミュレーション, 高木知弘, 長谷部忠司, 冨田佳宏, 材料, 第54巻第6号, (2005), 595-600.
Phase-Field Simulation of Self-Assembled Quantum Dots, T. Takaki, T. Hasebe, Y. Tomita, Submitted to Theoretical and Applied Mechanics Japan, 2005