量子ドットの自己組織化成長シミュレーション

全シミュレーション領域

拡大図（上の左から7番目の島近傍）

薄膜材蒸着過程の量子ドット自己組織化成長シミュレーション結果です．
薄膜形態が濡層→ピラミッド→ドームと変化する現象を再現しました．
カラーは界面と平行方向の応力の分布です．
弾性ひずみエネルギーを減少させるように薄膜の形態変化が生じています．

＜関連文献＞
Phase-Field Simulation of Surface Morphology Evolution during Epitaxial Growth of SiGe/Si System, T. Takaki, Y. Tomita, Key Engineering Materials, Vols.340-341, 2007, 1073-1078.
自己組織化量子ドットの形態発展とbimodalサイズ分布のPhase-fieldシミュレーション, 高木知弘, 冨田佳宏, 材料, 第55巻10号, (2006), 929-935.
Two-dimensional phase-field simulation of self-assembled quantum dot formation, T. Takaki, T. Hasebe, Y. Tomita, Journal of Crystal Growth, Vol.287, 2006, 495-499.

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